服務熱線
13810233784
| 品牌 | OTSUKA/日本大冢 | 價格區(qū)間 | 100萬-200萬 |
|---|---|---|---|
| 測量模式 | 直流 | 產(chǎn)地類別 | 進口 |
| 應用領域 | 化工,電子,綜合 |
半導體膜厚測試儀-OPTM
R&D ！ QC ！ 植入設備！ 都可簡單實現(xiàn)高精度測量！
測量目標膜的絕對反射率，實現(xiàn)高精度膜厚和光學常數(shù)測試！ （分光干渉法）
半導體膜厚測試儀特 長 Features
·膜厚測量中必要的功能集中于頭部
·通過顯微分光高精度測量絕對反射率（多層膜厚、光學常數(shù)）
·1點只需不到1秒的高速tact
·實現(xiàn)了顯微下廣測量波長范圍的光學系（紫外～近紅外）
·通過區(qū)域傳感器控制的安全構(gòu)造
·搭載可私人定制測量順序的強大功能
·即便是沒有經(jīng)驗的人也可輕松解析光學常數(shù)
·各種私人定制對應（固定平臺，有嵌入式測試頭式樣）
測量項目 Measurement item
·絕對反射率測量
·膜厚解析
·光學常數(shù)解析（n：折射率、ｋ：消光系數(shù)）
構(gòu)成圖
式 樣Specifications
※ 上述式樣是帶有自動XY平臺。
※ release 時期 是OP-A1在2016年6月末、OP-A2、OP-A3預定2016年9月。
＊ 膜厚范圍是SiO2換算。
